解決常規(guī)攪拌脫泡問(wèn)題的自轉(zhuǎn)回轉(zhuǎn)真空攪拌脫泡裝置是什么？

發(fā)布日期：2023-09-10      瀏覽次數(shù)：410

解決常規(guī)攪拌脫泡問(wèn)題的自轉(zhuǎn)回轉(zhuǎn)真空攪拌脫泡裝置是什么？

沒(méi)有混合均勻。攪拌是困難且耗時(shí)的。殘留大量氣泡，收率不提高。
攪拌和消泡存在各種問(wèn)題。

常見(jiàn)的混合和消泡問(wèn)題

• 高粘度物料攪拌困難

• 難以攪拌少量幾毫升

• 粘度、比重、觸變性差異較大的難以攪拌的物料

• 由于濃度不均勻，攪拌時(shí)間較長(zhǎng)。

• 由于容器內(nèi)有靜態(tài)部件，無(wú)法進(jìn)行攪拌。

• 攪拌后仍殘留細(xì)小氣泡，收率不增加。

• 設(shè)備維護(hù)需要時(shí)間和金錢

自轉(zhuǎn)公轉(zhuǎn)式真空攪拌脫泡裝置，
可實(shí)現(xiàn)均勻的攪拌分散，并可脫除最細(xì)小的氣泡。關(guān)于“攪拌"和“真空消泡"的5點(diǎn)！



自轉(zhuǎn)公轉(zhuǎn)式真空攪拌脫氣裝置，短時(shí)間即可攪拌！

容器內(nèi)的物料在繞軸自轉(zhuǎn)的同時(shí)進(jìn)行公轉(zhuǎn)，產(chǎn)生垂直對(duì)流，并因扭轉(zhuǎn)力矩而呈螺旋狀流動(dòng)。可以在短時(shí)間內(nèi)獲得均勻的攪拌狀態(tài)。



自轉(zhuǎn)公轉(zhuǎn)式真空攪拌脫泡裝置，可在短時(shí)間內(nèi)脫泡！

當(dāng)材料流動(dòng)時(shí)，氣泡也隨之流動(dòng)。氣泡與上表面的真空相界面接觸，迅速膨脹并破裂。即使是亞微米氣泡也會(huì)在短時(shí)間內(nèi)被去除到無(wú)法檢測(cè)到的水平。

對(duì)于不需要真空型脫氣的用戶，還有去掉真空泵的常壓型。